Nanonex納米壓印光刻機主要由螺栓，上層板，中間板，傳動螺栓，傳動導向桿，壓塊和底層板組成，用螺栓、螺母連接固定。本設備結構新穎、簡單，易于加工，并采用壓塊、導向桿和底層板分離的結構設計，不僅實現(xiàn)了模具和硅片的自調平衡、達到很高的加工進度，而且降低了底層板，中間板與傳動導向桿之間的位置精度要求，降低了制造成本。
Nanonex納米壓印光刻機主要用途：
1.本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位，對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機。
2.由于本機找平機構*，找平力小、使本機不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片、的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
3.工作方式：本機為單面對準、單面曝光。
Nanonex納米壓印光刻機主要功能特點：
1.適用范圍廣：適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.結構*：具有半球式找平機構和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構。
3.操作簡便：采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調試、維護、修理都非常簡便。
4.可靠性高：采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用dute的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設“碎片"處理功能：解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。
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