邁可諾科研型納米壓印機(jī)RD-NIL100，是一款桌面型納米壓印系統(tǒng)。 主要應(yīng)用于微米或納米結(jié)構(gòu)的壓印成型。

一、納米壓印機(jī)應(yīng)用

1.1 DOE（人臉識(shí)別衍射元器件）

可用于制造高精度的衍射光學(xué)元件（DOE），這些元件在人臉識(shí)別技術(shù)中起到關(guān)鍵作用。通過(guò)納米壓印技術(shù)，能夠在基材上形成微米或納米級(jí)的復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)，用于光束整形和衍射，從而提升人臉識(shí)別設(shè)備的成像質(zhì)量和識(shí)別精度。

1.2 Diffuser（擴(kuò)散元器件）

該設(shè)備適用于生產(chǎn)光學(xué)擴(kuò)散器，通過(guò)壓印形成均勻的微納結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)光的散射和擴(kuò)散。這種擴(kuò)散元器件廣泛應(yīng)用于照明系統(tǒng)、顯示技術(shù)以及激光散射領(lǐng)域，能夠有效改善光分布均勻性。

1.3 AR波導(dǎo)片

在增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）領(lǐng)域，可用于制造波導(dǎo)片，通過(guò)納米壓印技術(shù)在基材上形成特定的微納結(jié)構(gòu)，用于光的傳輸和耦合。這種高精度波導(dǎo)片是AR眼鏡和頭顯設(shè)備的核心組件，能夠提升虛擬影像的清晰度和視場(chǎng)角。

1.4 微透鏡陣列

能夠壓印出微透鏡陣列，即由多個(gè)微米級(jí)透鏡組成的結(jié)構(gòu)。 這種陣列廣泛應(yīng)用于光學(xué)傳感器、成像系統(tǒng)和光通信領(lǐng)域，可實(shí)現(xiàn)光線的聚焦、分束或準(zhǔn)直，提升設(shè)備的光學(xué)性能。

1.5 微流控芯片

在生物醫(yī)學(xué)和化學(xué)分析領(lǐng)域，該納米壓印機(jī)可用于制造微流控芯片。 通過(guò)壓印形成微米或納米級(jí)的通道和結(jié)構(gòu)，用于精確控制微量液體的流動(dòng)、混合和反應(yīng)，適用于疾病診斷、藥物篩選和單細(xì)胞分析等應(yīng)用。

6. 微針

還能生產(chǎn)微針陣列，即表面帶有微米或納米級(jí)針狀結(jié)構(gòu)的器件。 這種微針可用于無(wú)痛藥物傳遞、疫苗接種或生物傳感，通過(guò)壓印技術(shù)實(shí)現(xiàn)高密度、高精度的針尖制造，提升穿刺效率和生物相容性。

二、納米壓印機(jī)特點(diǎn)

● 桌面型，4/6/8英寸可選

● 熱壓印＜230℃，誤差±2℃

● 真空環(huán)境作業(yè)，＜1mbar

● 可壓印分辨率＜50nm圖案

三、納米壓印機(jī)技術(shù)參數(shù)

可實(shí)現(xiàn)圖案轉(zhuǎn)移分辨率：分辨率<50nm，可同時(shí)實(shí)現(xiàn)UV紫外固化和熱壓印兩種模式；

壓印精度控制及均勻性：在紫外固化模式下，可實(shí)現(xiàn)5:1深寬比，優(yōu)異的壓印高度均勻性；

熱壓印：230℃；100°C/min升溫速度；可以根據(jù)壓印材料，通過(guò)軟件實(shí)現(xiàn)不同溫度控制；

UV光源：配置i-line 365nm光源，光源能量值可達(dá)400mW/cm2；

壓力控制：真空腔≤100Pa；氣壓腔0.0-0.3bar，采用進(jìn)口干泵機(jī)；

壓印平臺(tái)：平整度TTV<5μm，確保長(zhǎng)期的高精度、高穩(wěn)定性；

檢測(cè)模塊：配置氣壓及溫度檢測(cè)模塊,與軟件配套，可實(shí)現(xiàn)特定環(huán)境的控制；

通訊接口：USB2.0標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算機(jī)與儀器通訊接口；

壓印室尺寸：直徑~105mm，高度~12mm（4寸）；

支持自定義 ：可根據(jù)客戶壓印材料不同，控制不同氣溫，UV紫外照射時(shí)間及量；

應(yīng)用軟件

操作控制：提供簡(jiǎn)單易操作的控制流程，同時(shí)支持管理員模式更改個(gè)別需求參數(shù)；

實(shí)時(shí)監(jiān)控：監(jiān)控壓印腔體內(nèi)的溫度、壓力數(shù)據(jù)，實(shí)時(shí)反映在監(jiān)控軟件上。