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國產(chǎn)立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達(dá)到國際水平?？茖W(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。

國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達(dá)到國際水平。科學(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。

國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸非真空，RTP500Z，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達(dá)到國際水平?？茖W(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。

TC-Wafer校準(zhǔn)儀是一款專注晶圓溫場均勻性測量的儀器，適配市場上大多數(shù)主流廠家生產(chǎn)的RTP設(shè)備。

RTP-3系列快速退火爐，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實現(xiàn)對實驗材料的快速升溫和降溫

AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。