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簡(jiǎn)要描述：高分辨率：支持 ＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實(shí)現(xiàn)200nm柱陣列）。量產(chǎn)適配：UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩(wěn)定性。工藝靈活性：可搭配 LOR 光刻膠實(shí)現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。通過(guò) SiPOL 硅含量樹(shù)脂實(shí)現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。
產(chǎn)品型號(hào)：mr-NIL212FC 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-07-02訪 問(wèn) 量：130產(chǎn)品分類(lèi)
詳細(xì)介紹
——來(lái)自德國(guó) micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)
? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)（ISO 9001 & 14001）
應(yīng)用領(lǐng)域：
l光子學(xué)（超表面、光柵、AR/VR）
l下一代電子器件（納米線、MEMS）
l生命科學(xué)與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）
產(chǎn)品型號(hào) | 核心特性 | 適用場(chǎng)景 |
mr-NIL210 | 專(zhuān)為 PDMS 類(lèi)柔性印章優(yōu)化，極薄殘膠控制（<10nm），高均勻性 | 柔性基底、曲面壓印、快速量產(chǎn) |
mr-NIL212FC | 兼容低強(qiáng)度光源（<40>2（SiO?），適合精密金屬蝕刻 | 納米電子、金屬納米結(jié)構(gòu)制造 |
mr-NIL200 | 自粘附配方，無(wú)需底涂，專(zhuān)為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設(shè)計(jì) | 高精度光學(xué)元件、硬質(zhì)基底壓印 |
mr-UVCuF26SF | 溶劑型噴墨專(zhuān)用，低自發(fā)熒光，生物相容性佳 | 生物芯片、醫(yī)療器件 |
| mr-I 9000M | 熱固性樹(shù)脂，無(wú)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg），耐高溫 260°C，yongjiu光學(xué)透明 | 高溫環(huán)境應(yīng)用（如封裝、光學(xué)透鏡） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸堿/有機(jī)溶劑，超高紫外透過(guò)率 | 微流控芯片、透明器件 |
NIL + 深度刻蝕：通過(guò)含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實(shí)現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。
產(chǎn)品咨詢(xún)
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
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